stl字尾是由3D Systems軟體公司創立、原本用於立體光刻計算機輔助設計軟體的檔案格式...
” VLSI研究分析師里斯託·普哈卡(Richardo Puhakka)問及壓印光刻技術在半導體行業中需要多長時間,他回答說:“從那天開始,它還有很長的路要走,也許它根本不會發生...
“刻蝕”是光刻後,用腐蝕液將變質的那部分光刻膠腐蝕掉(正膠),晶圓表面就顯出半導體器件及其連線的圖形...
結構對比從結構上來看光刻機和蝕刻機...
中文名刻蝕外文名etch工藝半導體制造工藝狹義理解光刻腐蝕基本內容刻蝕方法刻蝕最簡單最常用分類是:幹法刻蝕和溼法刻蝕...
142.1.7. CMOS的源、漏製作旋塗PR,採用Mask光刻出NMOS區域,如圖2...
1994年的時候 ASML公司在全球光刻機市場中僅佔有18%的份額,當時正是日本半導體企業如日中天的時候,日本半導體的成功背後,是尼康、佳能兩大光學巨頭的光刻裝置,以及東京電子、日立、迪恩士等一系列配套廠商的支援...
相移掩模技術的應用有可能用傳統的光刻技術和i線光刻機在最佳照明下刻劃出尺寸為傳統方法之半的圖形,而且具有更大的焦深和曝光量範圍...
看情況你大概是光工出身的吧,光刻說到底是服務半導體的,你再牛也不可能進入核心,鐳射器你如果努力的話還是有可能接觸核心技術的...
文章裡關於光刻機是這樣一段:光刻掩摸版的製造看看看看,1972年,中國就編過《光刻掩膜版的製造》一書,充分證明中國在當時是有光刻機的,和日本差不多同時起步,到1980年已經接近國際主流水平...
目前唯一上市的是ASML麥斯威爾公司(荷蘭)生產的極紫外EUV光刻機,但它並非憑藉一己之力—哪怕是星球霸主美國,也只是參與控股和部分研發...
在半導體技術不斷髮展的時代,光刻的精度也在提高,2021年先進工藝就要進入5奈米至3奈米的工藝節點,極紫外光刻成為繞不開的獨木橋,EUV光刻機就是半導體龍頭企業競相購買的焦點...