YY4792021-04-24 22:26:52

光刻機是晶片製造的核心裝置之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶片的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED製造領域的投影光刻機。萊垍頭條

用於生產晶片的光刻機是中國在半導體裝置製造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高階光刻機完全依賴進口，本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用於晶片生產的裝置。條萊垍頭

二、工作原理條萊垍頭

在加工晶片的過程中，光刻機透過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後對映到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。萊垍頭條

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、鐳射刻蝕等工序。經過一次光刻的晶片可以繼續塗膠、曝光。越複雜的晶片，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控制過程。萊垍頭條

宣威磊哥2021-04-24 22:22:54

光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形透過光線的曝光印製到矽片上。高階的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，解析度通常七奈米至幾微米之間，高階光刻機號稱世界上最精密的儀器！條萊垍頭

北京寶寶9992021-04-24 22:22:34

生產CPU，記憶體等微電路晶片用的。萊垍頭條